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第502章 光刻工厂的设想弯道超车(第5页)

“asml把光刻机做的这么小,所以它才需要这么多高端的设备和仪器。”

“它之所以做小,是为了可以出口售卖,卖给芯片厂商,为了方便运输,为了方便搬运。”

“但如果我们抛弃运输,售卖的想法呢。”

“直接把小小的一个光刻机变成一座光刻工厂,这样一来,就能避开光刻机的很多技术要求了。”

“起码,这么做的话,我们就未必需要最尖端的技术来组装。”

“同时,一台光刻机每天二十四小时工作下来,生产出来的合格芯片,也只有几万枚而已。”

“但是,如果由光刻工厂来生产的话,生产效率能在光刻机的基础上翻上最低十倍之多。”

沈总管并没有因为王东来说出来的这么多优势而兴奋,依旧保持着冷静。

“你说的都是优点,我想半导体领域应该也有人能想到这一点,但是却没有人这么做,也没有这样的尝试,这里面肯定还是存在着一些问题。”

“从目前的情况来看,应该是坏处多于好处,所以你说的光刻工厂可行性暂且不说,你如何能证明它建造完成之后,可以超过光刻机。”

听到沈总管指出这个问题,王东来脸上浮现出一丝笑意。

“领导,您说的确实是一个很重要的问题。”

“关于这一点,我也可以做一个简单的解释。”

“光刻机也存在优点和缺点,它的缺点是光源相干性极差,使用反射镜滤光单镜光源损耗率30%,总损耗98%,ASML使用的反射镜全世界只有蔡司能够生产。”

“第二,光刻机的锡污染以及光路散热工程造成易损件成本增加,高NA升级到600瓦光源功率,使得整机成本增加到四倍。”

“第三,光刻机的生产效率低下,以3400B来说,该EUV光刻机的生产效率是每小时125片晶圆,还不到DUV光刻机生产效率的一半,毫无疑问,该光刻机的生产效率不高,将直接导致芯片的生产成本居高不下。”

“最后,便是光刻机的耗电量大,TJD的所有EUV光刻机开工用电量将会占用半个三峡电站的发电量。”

“至于光刻机的好处我就不提了,我再说说光刻工厂的优缺点。”

“缺点有一点很重要的,那就是波荡器、扭摆器、尾场激光器三大件,不能产生瞬间磁场的弯铁必须淘汰,还没有这样的装置进行验证。”

“如果说光刻机是机床的话,光刻工厂就是一个车间,把光刻机尽量放大,用一台周长100到150米的环形加速器来作为光源,然后带动数台甚至是数十台光刻机进行工作。”

“我们在追赶荷兰的光刻机时,如果只想着因循守旧,走人家的老路,很难在短时间内完成超越。”

“我们必须要另辟蹊径,开发出新的技术路线。”

“光刻工厂,就是我想到的最好办法!”

听完王东来的话,沈总管陷入了沉默之中,久久没有言语。

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