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第422章 科学的哲学（第2页）

翟达为老师介绍了这台设备状况，尤其逆向的思路与国内外技术区别。

“CVD是碳化硅半导体重要的一环，在诸多工序中，这部分的自主化可以节省20%以上的成本，不过排第一的成本项还是‘衬底’，占据成本的40%，我的最终希望是将碳化硅半导体的成本压缩到现在的10-15%。”

这也意味着海外的相关产业会被毁灭性打击。

有时候工业上所谓的“卷”，媒体是真用错词了，还真不是普通人理解的“压榨员工”能做到的，尤其是高端制造业，技术革新和自主化才是重点。

“大概是尚未有足够的市场动力，全球这条路上跑着的企业，都有点得过且过的意思，毕竟比起技术进步，技术封锁更容易，还一样能挣钱，就比如TEL的原型机感觉学校被坑惨了。”

实际上若时间线往后拉十几年，回到翟达熟悉的那个碳化硅广泛应用时代，日本在碳化硅领域，已经丢掉了目前领先的位置。

就和他们许多其他产业一样。

地方小只能依赖外国市场和外国资源，奈何两大市场都不好混。

阿中是有世仇，日本自己也拧巴的很。

阿美更暴力，纯纯当血包吸了。

钱老对于这些倒是没什么评价，反而沉吟片刻后道：“如果按照‘单片反应腔’的规格，是否效率有些太低了？”

翟达一愣：“呃如果扩大腔体，比如双托盘同时沉积，那么腔体体积更大，气体系统的湍流问题会更复杂，影响均匀性。”

虽然零帧起手就是技术问题，他回答的很快。

老师却摇摇头道：“湍流虽然难以预测，但可以干预，单纯因为湍流问题放弃效率提升，不如想想如何解决最终目标。”

“比如在扩大腔体的同步，降低长径比，可以有效减少涡流区域，同时在气体入口安装蜂窝结构导流板，即可进一步破碎大涡流。”

翟达眼睛一亮。

“另外透过现象看本质，湍流对你来说的影响在于均匀性，那如果有其他措施补偿，也未尝不能忍受，我想到两个，一个是用红外列阵的方式加热，可以提升温度均匀性，继而补偿沉积均匀性，另一个是气阀高频开关，亦可避免连续气流造成的涡旋，碳化硅功率器件应该很容易做到。”

老师可是力学大师，尤其对气体力学和热力学，都是开山鼻祖的级别。

老人家没有顺着翟达的思路思考，而是直接提出了几个全新的角度。

钱老反手拍了拍翟达的手背，语重心长的说道：

“小翟，凡是要处理复杂的事情，都要从总体上去把握，有些东西看似有害无益，但将其放在整体中思考，关注其相互作用，就能有不同的发现。”

“这种思考不会突破科学的硬性框架，但对于人类改变自然的过程，却有着极大的帮助，可以帮助一个人，跨学科、跨领域、甚至跨时代的获得支持。”

“在我看来。现在科学已经很发达了，但人类运用已知科学解决问题的能力不够发达，也就是已有体系内的利用率太低，就像眼前这个，不要去等待有人能堪破湍流的谜题，而是将其当做整体中的一个部分。也许你会发现，限制你的不是某个自然科学的原理，而是没有科学的思维，这就是系统工程”

老师的声音并不激昂，但却如黄吕大钟般，引起了翟达的共鸣。

只能说。老师不愧是老师，哪怕已经脱离一线数十年，他的智慧不单单在于某个尖端领域的突破，而更接近于一种。更本质的思考。